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装飾の争い


知財高裁で平成28年(行ケ)第10087号 審決取消請求事件という事件を見つけました(裁判例はこちら)。

この事件は、ある特許権(特許第4465408号。発明の名称「物品の表面装飾構造及びその加工方法」)に対して無効審判が請求され、この無効審判では特許は無効にならなかったところ、これに不服とする原告が審決の取り消しを求めて提起した訴訟です。

結果としては原告の請求が棄却され、特許はそのまま生き残っています。

争いの内容は判決文をご参照していただきたいのですが、ちょっと興味深いのがこの特許の成り立ちと内容です。

まず、この特許、初めは実用新案登録出願され、その後に特許に変更され特許になっています。しかも早期審査されています。

アクセサリー等の表面装飾に関連する技術なので、もしかしたら当初は特許は難しいかな、と思ったのかもしれません。しかし、市場に出してみたら「これは特許にしないとまずい」という状況が発生して考え直し、特許に変更したのかもしれませんね。

そして、どんな特許かというと、「加工が容易であって、任意デザインの金属光沢による高級感のある装飾模様を形成することができ、要に臨んで、立体的な装飾模様を形成することも可能な物品の表面装飾構造及びその加工方法を提供する」(上記特許の特許公報の段落【0007】から抜粋。)という課題を解決するためになされた発明で、請求項1だけ抜粋しますと、
「【請求項1 】
 透光性を有する透明または半透明のプラスチック材料で構成した基材(1 )の表裏に位置する表面において、少なくとも金属光沢を有する金属材料が層着した金属被膜層(2 )が形成されている一方、
 この金属被膜層(2 )の少なくとも一部にはレーザー光が照射されることにより設けられた剥離部(21)が表裏面で対称形状に設けられており、この剥離部(21)において前記基材(1 )の表面が露出して、当該基材(1 )の外観と残存した金属被膜層(2 )の金属光沢との相異により装飾模様(P )が形成されており、
 基材(1 )および金属被膜層(2 )がそれぞれ表出した状態で、これらの表面が透光性を有する合成樹脂材料からなるクリアコーティング層(3 )によって被覆されて、前記金属光沢による装飾模様(P )の表面が保護されていることを特徴とする物品の表面装飾構造。」
というものです。

アクセサリーや宝飾品等の表面装飾というと、意匠という意識に傾きがちですが、特許(本件ではまず始めに実用新案)で保護することができる面もあります。

そして、本件のように無効審判を請求されるほど、(おそらく)競合に大きな影響を与える場合もありますので、自社が製造販売するものがどのような影響を外部に与えるのか、キッチリ検討しておくことが必要ですね。

今知的財産事務所
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コンセプト特許の技術的裏付け


アイデア段階からのご相談を受けることも多くありますが、コンセプトレベルで特許権を取得することができれば、権利範囲的にも応用的にも事業にとってかなり有用です。

ただ、コンセプトレベルの発明の場合、発明者・開発者の側で技術的な裏付けまではあまり考えられていないことも多くあります。その場合は、弁理士が、ある程度、技術的な裏付けを検討・追加し、実際にその発明を実施できると考えられるレベルまで仕立て上げる必要があります。

この様なコンセプトレベルの発明の特許化を目指すことはよくありますが、とてもやりがいがありますし、技術的な裏付けをする過程がとても面白く思います。

予め技術面がきっちり決まっている発明では、ある意味、コンセプトはほぼ決まっており、弁理士側がアイデアの糸口を提供する範囲は限られていますし、技術内容も弁理士側が提案する余地は狭いことが多いです。

一方、コンセプトレベルの発明の場合、通常は、そのコンセプトを創り出す前から弁理士も同席し、あーでもないこーでもない、とワイガヤの中からコンセプト創造し、創造したコンセプトに基づいて、技術的な裏付けを追加して特許出願します(実際はこれだけでなく、コンセプト創造前に先行特許の調査等、様々な「下準備」をします。)。

そして、本当にこれまでなかったコンセプトだとすんなり権利化されることもありますが、権利範囲が広くなりがちなので権利化まで苦労することもあります。

ただ、これまで私が初めから携わったコンセプトレベルの特許出願において進歩性欠如の拒絶理由は多々受けたことがありますが、実施可能要件違反の拒絶理由を受けたことは幸いにしてありません。

コンセプト創造前の先行特許調査が、ある程度の技術の勉強にもなりますし、事案に応じ、その都度、関連書籍を購入して情報収集しているので、実施可能要件はクリアできている、ということなのでしょう。

コンセプトレベルの発明では、このように技術面での裏付けが不可欠なことが多いですが、そのために都度、勉強する、ということを楽しめるのであれば、この仕事に向いているといえるかもしれません。

今知的財産事務所

技術コンセプトを外に出すときには要注意


何らかの製品・サービスを世の中に出そうとする場合、まだ製品は完成していないものの基本コンセプトは既にあって、どうやってカタチにしていくかを考えることや、モックアップを作ったのでそこからプロトタイプ、製品へとつなげていこうと考えること等があると思います。

特に中小・ベンチャー企業では、アイデアがありモックアップやプロトタイプレベルまでは何とか自力でできるものの、製品化する際には自力では無理なので外の企業と協業したい、と思うことがあると思います。

しかし、基本コンセプト等に関して何も手当をせずに外の企業に接触することにはリスクがあります。

知財は基本的に無体財産であり、例えば、特許の対象である発明は技術的アイデアという「情報」です。「情報」は自分の頭の中にとどめておけば独占できますが、ひとたび話してしまうと、何も手を打っておかなければ、もはや独占できません。

そこで、技術的アイデアが含まれるコンセプト等を元に外部企業と接触する場合、事前に特許出願をし、第三者に自分たちのアイデアを盗まれないようにすることがリスク管理の一つになります。

もし特許出願せずに外部企業と接触すると、最悪の場合、「そのアイデアは大したことないですね」といって追い返された後、気が付いた時にはその企業にそのアイデアや改良したアイデアについて特許出願されてしまっていた、ということも起きないとも限りません。

もちろん、基本コンセプトやモックアップ、プロトタイプの段階から製品化されるまでの間に改良等がなされることがあると思いますが、その場合は、時期的な縛りはありますが国内優先権主張出願を利用することや、別途、改良部分のみ特許出願するというような対応が必要になることはあります。

しかし、いずれにせよ、基本コンセプト等の情報は簡単に模倣される可能性がることを念頭に、模倣をされたくないのであれば特許出願を活用する道もある、ということは肝に銘じておく必要があります。

ひとたび情報が外に出てしまえば、それを回収することは不可能ですので。

今知的財産事務所

自社にしかできない技術の特許は必要?

特許に関する訴訟のニュースがときどき報じられます。

特許権者は、自分たちの特許に関する技術を使っているのではないか?と思われる第三者がいると自らの事業の障害になるので、交渉や訴訟等においてその障害を除去しようとします。そのため、「訴訟」という手段をとることもあります。

ところで、自社が開発した技術(サービスを含みます)について特許権を必ず取得しなければならない、と思い込んでいませんか?

「特許権を取得しなければ他社に真似されても文句を言えない!」

確かにそうです。

しかし、極論を言えば、本当に自社『しか』できない技術であるならば特許権を取得する必要は『ありません』。

なぜなら『真似ができない』はずだからです。

特許出願すると出願から1年6カ月を経過した後にその技術は全世界に公開されてしまいます。そして、特許権の存続期間は原則として20年であり、20年経つと特許権は消滅してしまいます。20年経つと誰でもその技術を使えるようになってしまいます。

したがって、本当に自社『しか』できない技術であるならば特許出願するよりも秘密にしておく方が得な場合があります(ただし、営業秘密として適切に管理する手間暇はかかります。)。

例えばコカコーラのレシピや、部外者が絶対に立ち入らない自社工場の奥だけで秘密に使用する装置や製造方法のように。

しかし、技術が絶対に第三者にばれない例はなかなかありません。ノウハウもそのノウハウを身に付けた人が退職した場合、完全に秘密にできるのか?というと難しい場合もあります。

そのため、通常は自社開発した技術に関し、特許権を取得することが多いでしょう。

製品を買ってきて分解するようなリバースエンジニアリングにより技術内容が分かってしまうような場合も、特許権の取得はやはり必要になってきます。

特許権を取得すれば、第三者に真似された場合に「やめろ!」と言えますし、粗悪な模倣品が市場に出回ることによる自社製品の信用棄損も抑えること等ができるからです。

しかし、それよりも有効な戦術の1つとしては、他社が自社製品を迂回して開発するであろう技術について権利を取得することがあります。

技術者はついつい目の前の自分の技術にだけ注目しがちですが、競合が自分たちに追いつかないように迂回技術をおさえておくことも重要です。

効果的に迂回技術を抑えておけば、競合他社が追いつく間に自社は更にその一歩先に進むことができ、結果として市場における優位性を確保し続けやすくなります。

今知的財産事務所

特許料等の軽減措置の期限に注意!

 
現在、中小企業やベンチャー企業等に対し特許の出願審査請求料や特許料、そして国際出願の調査手数料等が軽減される制度があるのですが、その制度は平成30年3月31日までに特許の審査請求をした場合、又は国際出願が受理された場合に限られます。

したがって、審査請求をする日や国際出願を平成30年4月1日以降にする場合、軽減措置の対象にはなりません(詳しくは特許庁ホームページ→こちら)。

これらから特許出願して審査請求する場合や国際特許出願をする予定がある場合であって、軽減措置を受けたい場合、審査請求や国際出願の期限に注意する必要があります。

但し、特許庁は、中小企業の審査請求料や特許料、そして国際出願手数料等を一律、軽減する法案を検討しているようです。

その法案が通れば、再び、審査請求料等の軽減を受けることができるようになると思います。

ただ、くだらないことで国会での審議時間が無くならないことを祈るばかりですね。

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【弁理士】今 智司

Author:【弁理士】今 智司
今(こん)知的財産事務所の所長ブログです。2011年1月に独立開業しました。知財はビジネスに役立たせてこそだ!と考え、技術、デザイン、ブランドの知財複合戦略を考えています。

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